光刻机巨头ASML放狠话:建树全自主芯片财富链,没戏
近多少年,光刻受国内大情景所影响 ,机巨建树“半导体”未然是放富链全天下规模内最受关注的行业之一。
而一谈起半导体,狠话光刻机永世是全自绕不外去的热门话题 ,由于光刻机是主芯半导体制作的中间配置装备部署之一,其在半导体制作历程中处于颇为关键的片财位置 。
因此,没戏良多人将光刻机誉为“半导体工业皇冠上的光刻明珠”。
当初的机巨建树光刻机市场 ,泛起出”一超双强“之势 ,放富链ASML、狠话尼康 、全自佳能简直占有了所有份额。主芯
其中 ,ASML 无疑是实力最强 ,且最被公共所熟知的光刻机配置装备部署制作商。
早在 2018 年,ASML 在高端市场占有的份额就高达 90% ,在 10nm 节点如下,更是稳稳占有 100% 的市场。
在半导体工艺进入 7nm 制程的节点后,惟有 ASML 能制作出极紫外(EUV)这一先进水准的光刻机。
此前,ASML 的 CEO 兼总裁彼患上・维尼克曾经泄露过下一代极紫外光刻机的新闻,将在 2024 年开始出货。
他展现 ,就临时而言,妄想每一年破费 20 台。
从 ASML 官网宣告的信息来看,下一代极紫外光刻机将命名为 EXE 系列 ,数值孔径将由 0.33 增至 0.55 ,用于 2nm 及如下的制程工艺 。
不外,思考到出货后 ,后续还需要妨碍装置以及测试,因此真正投入到破费中,最先也要在 2025 年。
换言之 ,在 2025 年,半导体约莫率将进入到 2nm 时期。
同样,由于家喻户晓的原因 ,光刻机以及 ASML 也是有数国内网友关注的焦点 。
受限于高端制程的配置装备部署 、技术缺少,国内半导体行业在以前多少年间处于被“洽谈”的形态。
既买不到先进的 EUV 光刻机 ,又无奈制作自主妄想进去的先进制程芯片